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中國電科勇攀CMP研發(fā)高峰 推動高端集成電路裝備國產化

“我們自主研發(fā)的200毫米化學機械拋光(CMP)設備成功進入客戶現(xiàn)場驗證,各項測試數(shù)據(jù)良好。”來到中國電科45所的凈化廠房內,排列著數(shù)臺待調試的設備,工程師們正緊張有序地忙碌著。

CMP國內市場占有率70%、300毫米CMP設備累計流片數(shù)萬片,CMP設備銷售收入、利潤均遠超去年同期……2022年上半年,中國電科CMP設備捷報頻傳。

CMP是芯片制造的七大關鍵設備之一,因其高精度、高密集的技術要求,長期以來,我國集成電路裝備難以實現(xiàn)自主創(chuàng)新。國家需要就是科研方向。中國電科團隊勇挑使命,上下同心、合力攻堅,通過苦研算法、反復推演、耐心驗證,終于成功研發(fā)出國內首臺擁有完全自主知識產權的200毫米CMP商用機,經嚴格的“馬拉松”測試,上線集成電路大生產線,獲評“媲美國際同類設備”。

在CMP設備之外,中國電科圍繞產業(yè)鏈部署創(chuàng)新鏈,在高端裝備領域形成了高端顯示、光伏新能源、動力電池材料等泛半導體裝備局部成套和集成服務能力:實現(xiàn)中束流、大束流、高能、特種應用及三代半導體離子注入機全譜系產品創(chuàng)新發(fā)展;全系列晶圓清洗干燥技術達到國際先進水平;瞄準光器件“卡脖子”難題,研制的全自動多芯片共晶貼片設備成功填補國內空白;同時擁有完全自主知識產權的國產減薄設備,在國內大尺寸硅材料片領域實現(xiàn)全系列化應用……中國電科挺起集成電路高端裝備自立自強“脊梁”,持續(xù)輸出國產化裝備“硬核”成績單。

[責任編輯:潘旺旺]
標簽: 中國電科   芯片